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itri-cel.gif 詢價單號:2001795419
列印日期:2026/03/28
彙總號碼:A532001923
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規格
10 1 EA 20261116  
 ALD技術於LMR型光纖氣體感測元件測試及製作開發  
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 原子層沉積技術於LMR型光纖氣體感測元件製作開發

一、 技術說明
隨著工業發展與都市化程度提高,氣體污染監測已成為環境安全與公共衛生的重
要議題。其中二氧化碳(CO₂)與溫室效應密切相關;氨氣(NH₃)則廣泛存在於
農業、工業與生醫應用場域,過量暴露將危害人體健康。因此,開發高靈敏度、
快速響應且具選擇性之氣體感測器具有高度應用價值。損耗模態共振(Lossy Mod
e Resonance, LMR)是一種基於光纖波導技術的光學感測機制,可用於液體 感測
、環境溫度感測、磁場感測、氣體感測…等技術,當感測環境介質的折射率 改變
時,高折射率薄膜內傳輸光的有效折射率也隨之改變,導致LMR共振波長發 生偏移
,透過偏移的波長來計算其反應靈敏度,及波長變化時間為響應時間,並 進行重
複量測驗證其重複性。本研究利用損耗模態共振(LMR)原理結合側磨光 纖技術的
設計及研製高靈敏度及低響應時間的薄膜型光纖氣體感測器,採用自製 的側磨拋
光技術製作側磨光纖(Sided Polished Fiber, SPF)和雙面側磨光纖 (Double-S
ided Polished Fiber, DSPF),並利用原子層沉積(ALD)技術、ALD 製程不僅能精
準控制薄膜厚度於原子級尺度,亦能在高深寬比結構上實現高均勻 性與高覆蓋率
。此外也可用電子鎗蒸鍍技術(Electron gun evaporation)鍍製 高折射率的金
屬氧化物薄膜,確保金屬氧化物薄膜的均勻性和緻密性,藉由改變 光纖感測器的
光纖殘留厚度,確保剩餘纖殼的厚度可以有效與金屬氧化物薄膜產 生損耗模態的
耦合,並實現最佳的感測靈敏度。氣體感測在可控氣體濃度環境中 進行光纖氣體
感測器的性能測試,記錄其響應光譜變化,通過比較不同光纖殘量 厚度、金屬氧
化物薄膜材料厚度對於感測光譜的感測性能,製作出一款具備高靈 敏度、低響應
時間的光纖氣體感測器,在未來廣泛應用於環境監測、工業氣體檢 測,進一步提
升光纖感測技術的實用性。 LMR 是由光波導與薄膜損耗間的耦合所引發,並在特
定波長範圍內產生明顯 的共振效果。常用於此類應用的薄膜材料需具備較高的吸
收特性,如金屬氧化物 或聚合物等複合材料,包括氧化鋅(ZnO)、二氧化錫(Sn
O2)、氧化銦錫(ITO) 與氧化鎢(WO3)…等。LMR 是由於高折射率薄膜與環境
中的介質之間的光學特 性改變而產生的一種共振現象。當入射光傳播到鍍有高折
射率的薄膜時,一部分 的光從光纖的纖核中溢出。當光傳播到了高折射率薄膜中
,當在薄膜中傳播的光 波並滿足全內反射條件時,會在薄膜表面形成產生漸逝波
,且薄膜中傳播的光波 強度會發生顯著變化。當漸逝波的有效折射率與損耗模態
的有效折射率相匹配 時,LMR便在薄膜中形成,入射光與導波模態之間相位匹配所
引起的能量耦合, 尤其在吸收性或具損耗薄膜的光譜中會觀察到吸收谷。



二、 研究項目說明
本研究採用側磨拋光技術,製作SPF及DSPF側磨光纖作為感測元件,光纖 拋光完
成後量測拋光前後光譜數據,並使用高倍率光學顯微鏡拍攝側磨後的光纖 之殘留
厚度,透過MATLAB軟體進行光纖殘留厚度的標示。在薄膜製程方面,利 用原子層
沉積技術於光纖表面沉積高品質奈 米級薄膜。ALD 具備優異的膜厚控制能力與高
均勻性,可精準調控薄膜厚度與材 料特性,進而優化 LMR 共振條件與感測靈敏度
。透過此技術製作二氧化碳(CO₂) 及氨氣(NH₃)感測器,使薄膜材料能與目標
氣體產生特定吸附或化學作用,改 變其折射率或吸收特性,最終反映於共振波長
的位移。在氣體感測實驗方面,透 過原子層沉積技術鍍製金屬氧化物薄膜在光纖
拋光表面,製作出光纖感測 元件。ALD鍍膜後的光纖感測元件會放入有待測氣體的
腔體中,一端連接鹵素白 光光源,另一端連接至光纖耦合器,光纖耦合器的輸出
一端連接到近紅外光微光 譜儀,另一端可見光光譜儀進行寬波域的光譜量測,隨
後將氣體感測器放入腔體 中進行即時氣體濃度感測,將待測氣體通入腔體後記錄
不同濃度下對應的光譜訊 號,並以碼表計時計錄光譜變化的時間作為氣體的響應
時間,透過觀察LMR的波 長飄移變化,得出感測器對於感測氣體的靈敏度。

三、研究目標與相關規格
本研究之主要目標: 1. 建立 LMR 光纖氣體感測理論模型與實驗平台。 2. 以 AL
D 技術沉積高折射率金屬氧化物薄膜(如 Al2O3、ZnO、SnO₂ 等)於 側磨光纖表
面。 3. 開發 CO₂ 與 NH₃ 之專一性 LMR 光纖感測器。 4. 評估感測器之靈敏度
、線性度、響應時間、恢復時間與重複性。 5. 分析不同薄膜厚度與材料對氣體選
擇性與感測效能之影響。 光纖與LMR結構規格 包括光纖種類 單模光纖、多模光纖
工作波段 600–1700 nm(可見光–近紅外) 光源 寬頻光源(穩定度 <<)>
±0.1 nm) 光譜解析度 ≤ 1 nm 感測區長度 3–4 cm 共振型態 第一階 LMR 共
振(提升靈敏度) 鍍膜材料 Al2O3、ZnO、SnO₂ (100-150 nm)等

四、交付事項
整合 LMR 光學感測機制與 ALD 奈米薄膜沉積技術透過材料選擇與膜厚 最佳化,
可提升氣體吸附引起之折射率變化,進而放大共振波長偏移量。此技術 具備高靈
敏度、抗電磁干擾、可遠距離量測與即時監測等優點,可應用於環 境監測、工業
安全與智慧感測系統。 1.建立可重現之 ALD + LMR 光纖感測器製程技術。 2.製
作 CO₂/ NH₃ 高靈敏度光纖感測元件。 3.建立氣體濃度與波長偏移之標準校正曲
線(依薄膜材料而定)。 4.靈敏度預期可達數 pm/ppm 等級,發展高靈敏度LMR型
氣體光纖感測器。 5.發表SCI期刊論文至少1篇。


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